후지필름, XF렌즈 시리즈 최초 '망원 줌 렌즈(후지논 XF55-200mm F3.5-4.8 R LM OIS)' 공개

후지필름 일렉트로닉 이미징 코리아㈜ (대표 마츠모토 마사타케, www.fujifilm-korea.co.kr)은 자사 렌즈교환형 카메라 X-Pro1과 X-E1에 사용할 수 있는 망원 줌 렌즈 '후지논 XF55-200mmF3.5-4.8 R LM OIS'와 함께 2013년 새로운 렌즈 라인업을 공개했다.

후지필름은 2012년 2월 단렌즈 3종(XF18mmF2R, XF35mmF1.4R, XF60mmF2.4RMacro)을 출시한데 이어 11월 줌 렌즈 XF18-55mmF2.8-4R LM OIS와 초광각 렌즈 XF14mmF2.8R을 선보였다. 이번에 공개한 XF55-200mmF3.5-4.8 R LM OIS 렌즈는 5월 출시예정으로 XF렌즈 시리즈 최초의 망원 줌 렌즈로, 이를 통해 후지필름은 6종의 렌즈 라인업을 구축하게 됐다. 후지논 XF렌즈는 X-Pro1과 X-E1의 X-Trans CMOS 센서를 최대 성능으로 끌어주는 핵심 기술을 선보이고 있는 것이 특징이다.

XF55-200mmF3.5-4.8 R LM OIS 렌즈는 준 망원(35mm 환산 84mm)부터 망원(35mm환산 305mm) 까지 넓은 범위의 이미지 촬영이 가능하며, F3.5-4.8의 조리개 값을 지원하고 있다. 특히, 후지논 광학기술로 주변부 왜곡을 없애 전체 줌 범위내에서 고해상도의 이미지 촬영이 가능하고, 두 개의 리니어 모터를 탑재하여 0.28초의 빠른 AF를 실현한 것이 특징이다.

또한 OIS(Optical Image Stabilization : 광학식 손떨림 보정 장치)가 탑재되어 4.5스탑의 보정효과를 제공해 어두운 곳에서도 흔들림 없는 사진을 촬영할 수 있다. 뿐만 아니라 후지필름만의 독자 기술인 HT-EBC(High Transmittance Electron Beam Coating : 고투과율 전자 빔 코팅)를 전체 렌즈 표면에 적용해 고스트 현상과 렌즈 플레어를 최소화할 수 있다.


후지논 XF55-200mmF3.5-4.8 R LM OIS 렌즈는 사용자들의 편의성에도 초점을 맞췄다. 콤팩트한 사이즈에 휴대성을 높였으며, 고품질의 금속 배럴과 함께 사용자가 조리개를 쉽게 조절할 수 있도록 1/3EV 단계의 조리개 링을 제공하는 등 간편한 조작법을 선보이고 있다.

이외에도 후지필름은 X-Pro1과 X-E1에 사용할 수 있는 후지논 X마운트 렌즈 로드맵의 최신버전도 함께 공개했다. XF 렌즈 라인업 10종에 더불어 칼 자이스에서(Carl Zeiss)에서 3개의 X마운트 렌즈를 발표함으로써, 후지필름 렌즈 교환형 카메라에15mm 울트라 광각 렌즈부터 305mm 초망원 렌즈까지 총 13개의 렌즈를 사용할 수 있게 됐다.


후지필름 일렉트로닉 이미징 코리아㈜ 마케팅커뮤니케이션팀 배재현팀장은 "후지필름 카메라 유저들의 렌즈에 대한 니즈를 반영하여 차별화된 고성능과 휴대성을 높인 렌즈를 지속적으로 출시하고 있다"며, "특히 올해는 칼 자이스의 X마운트 렌즈 3개를 함께 발표하게 되어 유저들의 긍정적인 반응이 더욱 기대된다"고 말했다.

한편, 후지필름은 XF55-200mmF3.5-4.8 R LM OIS 렌즈와 함께 X-Pro1과 X-E1의 펌웨어 업그레이드를 공개할 예정이다. 새로운 펌웨어는 AF속도가 최대 0.7초 빨라지고, 현재 출시되어 있는 다른 XF렌즈에서도 보다 향상된 AF속도를 갖는다고 전했다.